叶超

姓名:叶超
职称:研究员
部门:物理科学与技术学院
联系方式:
0512-69157032电子邮箱:cye@suda.edu.cn

个人简历:

1986年毕业于苏州大学物理系,2001年获理学硕士学位,2006年获理学博士学位。现为苏州大学基础物理国家实验教学中心副主任、苏州大学低温等离子体创新研究团队核心成员。从事过《固体物理实验》、《近代物理实验》、《低温等离子体诊断技术》、《大学物理实验》课程教学,主编《低气压低温等离子体诊断原理与技术》。主持、参加国家级科研项目6项,在《Appl. Phys. Lett.》等国内外学术期刊发表研究论文100多篇,获得过江苏省、苏州市、苏州大学科技进步奖,江苏省、苏州大学教学成果奖,江苏省优秀硕士论文奖等。

获奖、荣誉和学术兼职:

1、“基础物理(实验)教学团队”2010年国家级教学团队。

2、2009年、2011年江苏省高等教育教学成果二等奖。

3、多频等离子体和离子束沉积多种微纳电子薄膜材料,2008年江苏省科技进步三等奖。

任教课程:

1、《大学物理实验》(本科生)

2、《等离子体物理与技术》(硕士生)

3、《等离子体应用前沿》(博士生)

研究领域:

主要从事低温等离子体物理、技术和凝聚态物理(薄膜物理)的研究。

基金项目:

1、国家自然科学基金:纳电子器件中的SiCOH超低k材料及相关复杂性研究/主持人 2006-2008

2、国家自然科学基金:多频等离子体与硅基软物质的作用研究/主持人 2010-2012

3、国家自然科学基金:多频等离子体溅射沉积Ag掺杂a-SiCxOy发光材料的研究/主持人 2013-2016

4、国家自然科学基金:ECR等离子体中多碳氟基团的研究/参加 2001-2004

5、国家自然科学基金重点项目:低气压多频等离子体与材料表面相互作用/参加 2007-2010

6、科技部ITER计划国内研究项目:强磁场螺旋波等离子体物理及超导托卡马克壁清洗新技术/参加 2010-2013

代表性论著、研究成果:

1C. Ye, etal., Dielectric properties of silicon nitride films deposited by microwave electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition at low temperature, Appl.Phys.Lett. 71, 336 (1997)

2C. Ye, etal., Microstructure and dielectric properties of silicon nitride films deposited by electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition, J.Appl.Phys. 83, 5978 (1998)

3C. Ye, etal., Optical gap of fluorinated amorphous carbon films prepared by electron cyclotron resonance trifluromethane and benzene plasmas, Diamond Relat. Mater. 13, 191 (2004)

4C. Ye, etal., Effect of doping on structure and dielectric property of SiCOH films prepared by decamethylcyclopentasiloxane, J. Electrchem. Soc. 154, G63 (2007)

5C. Ye, etal, Effect of decamethylcyclopentasiloxane and trifluromethane electron cyclotron resonance plasmas on F-SiCOH low dielectric constant film deposition, J.Appl.Phys. 106, 013302 (2009)

6C. Ye, etal, Reptation aggregation of liquid silicon oils modified by Ar plasmas, Plasma Process. Polym. 10, 761 (2013)

7F. Huang, C. Ye, etal, Effect of driving frequency on plasma property in radio frequency and very high frequency magnetron sputtering discharges, Plasma Sources Sci. Technol. 23, 015003 (2014)

8、《低气压低温等离子体诊断原理与技术》,主编,北京:科学出版社(2010


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